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首记录 上一条 1 / 2 下一条 尾记录 MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:19

题名/责任者:
金刚石薄膜沉积制备工艺与应用/戴达煌等编著
出版发行项:
北京:冶金工业出版社,2001.6
ISBN及定价:
7-5024-2775-9/CNY20.00
载体形态项:
208页:图;21cm
丛编项:
21世纪新材料科学与技术丛书
个人责任者:
戴达煌 编著
学科主题:
电弧等离子体射流喷涂涂层
中图法分类号:
TB43
提要文摘附注:
本书讲述了各种沉积薄膜的制备方法;金刚石薄膜的非平衡热力学和金刚石膜生长的动学因素;探讨了能大面积沉积金刚石膜的热丝装置和当今沉积速率最高的等离子射流装置的一些关键技术和成膜工艺。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TB43/9 B00227555 2001.6  调节书库     阅览 调节书库
TB43/9 B00227554 2001.6  自然科学图书借阅室     可借 还书处
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