MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：30
- 题名/责任者:
- 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)Christopher Saint，(美)Judy Saint著 周润德, 金申美译
- 出版发行项:
- 北京:清华大学出版社,2006
- ISBN及定价:
- 7-302-10860-9/CNY59.00
- 载体形态项:
- 16,435页;23cm
- 并列正题名:
- IC Mask Design:Essential Layout Techniques
- 其它题名:
- 基础版图技术
- 丛编项:
- 国外大学优秀教材:翻译版.微电子类系列
- 个人责任者:
- (美) 塞因特 C. Saint,Christopher 著
- 个人责任者:
- (美) 塞因特 J. Saint,Judy 著
- 个人次要责任者:
- 周润德 译
- 个人次要责任者:
- 金申美 译
- 学科主题:
- 集成电路-电路设计-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- TN402
- 版本附注:
- 本书中文简体字翻译版由美国麦格劳-希尔教育出版(亚洲)公司授权出版
- 提要文摘附注:
- 本书覆盖了数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式，最后还提供了两个实例研究。
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