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题名/责任者:

光学投影曝光微纳加工技术/姚汉民, 胡松, 邢廷文著

出版发行项:

北京:北京工业大学出版社,2006

ISBN及定价:

7-5639-1669-5/CNY46.00

载体形态项:

285页:图;26cm

丛编项:

电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著

个人责任者:

姚汉民 著

个人责任者:

胡松 著

个人责任者:

邢廷文 著

学科主题:

光学投影系统-应用-电子束光刻

中图法分类号:

TN405

提要文摘附注:

本书介绍主流光技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景，详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术及整机集成。

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