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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:14

题名/责任者:
等离子体浸泡式离子注入与沉积技术/汤宝寅, 王浪平编著
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2012
ISBN及定价:
978-7-118-07892-3 精装/CNY68.00
载体形态项:
17,238页;24cm
并列正题名:
Plasma immersion ion implantation and deposition technique
个人责任者:
汤宝寅 编著
个人责任者:
王浪平 编著
学科主题:
工程材料-表面改性
中图法分类号:
TB3
提要文摘附注:
本书主要内容包括PIIID技术发展概况、基础理论、PIIID设备关键部件设计、PIIID鞘层动力学计算机理论数值模拟与应用以及机械零件的PIIID复合等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TB3/115 B00762048 2012 - 自然科学图书借阅室     可借
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