MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：9
- 题名/责任者:
- 光学真空镀膜技术/石澎，马平主编
- 出版发行项:
- 北京:机械工业出版社,2022
- ISBN及定价:
- 978-7-111-69356-7/CNY46.00
- 载体形态项:
- 138页:图;24cm
- 个人责任者:
- 石澎 主编
- 个人责任者:
- 马平 主编
- 学科主题:
- 薄膜光学
- 学科主题:
- 真空技术-镀膜
- 中图法分类号:
- O484.4
- 中图法分类号:
- TN305.8
- 一般附注:
- CMP BOOKS
- 提要文摘附注:
- 本书以弱化理论、侧重实践与技能为原则，按照工序将光学真空镀膜技术分为光学镀膜基础与膜系设计、光学薄膜制备技术、光学薄膜检测技术三部分，对应光学薄膜制备的三个核心流程，基于工作过程和典型工作任务设置单元和内容，使书中内容与职业岗位要求相匹配。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| O484.4/10 | B01472314 | 2022 |  自然科学图书借阅室
|
可借 | 自然科学图书借阅室 |
| O484.4/10 | B01472315 | 2022 | 自然科学图书借阅室
|
可借 | 自然科学图书借阅室 |
| O484.4/10 | B01472316 | 2022 | 自然科学图书借阅室
|
可借 | 自然科学图书借阅室 |
| O484.4/10 | B01472317 | 2022 | 自然科学图书借阅室
|
可借 | 还书处 |
显示全部馆藏信息