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题名/责任者:

光学光刻和极紫外光刻/(德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著 高伟民，徐东波，诸波尔译

出版发行项:

上海:上海科学技术出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-5478-5720-5/CNY195.00

载体形态项:

316页:图;24cm

并列正题名:

Optical and EUV lithography: a modeling perspective

个人责任者:

(德) 爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著

个人次要责任者:

高伟民 (光电子技术) 译

个人次要责任者:

徐东波 (光电子技术) 译

个人次要责任者:

诸波尔 译

学科主题:

光学-光刻系统-研究

学科主题:

紫外线-光刻系统-研究

中图法分类号:

TN305.7

一般附注:

元基石

提要文摘附注:

本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。

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