MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：4
- 题名/责任者:
- 集成电路制造工艺与模拟/孙晓东，律博，宋文斌编著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2025
- ISBN及定价:
- 978-7-122-46537-5/CNY89.00
- 载体形态项:
- 184页:图，照片;26cm
- 丛编项:
- “集成电路设计与集成系统”丛书
- 个人责任者:
- 孙晓东 编著
- 个人责任者:
- 律博 编著
- 个人责任者:
- 宋文斌 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 提要文摘附注:
- 本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工；具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论，对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真，对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟；以NMOS器件为例，介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。
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