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• 010 __ |a 978-7-5024-8197-1 |d CNY45.00

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• 200 1_ |a 石墨烯基础及氢气刻蚀 |9 shi mo xi ji chu ji qing qi ke shi |f 王彬[等]著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2019

• 215 __ |a 133页 |c 图 |d 24cm

• 330 __ |a 本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构，石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用；然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜；最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。 由于石墨烯具有的独特的晶体结构、优异的电学、光学和机械性质，使其在纳米电子器件和储能应用等诸多领域引起科研人员的极大关注。近年来，石墨烯的基础研究越来越透彻，石墨烯器件的发展也随之突飞猛进。本书的内容涵盖了石墨烯的晶体结构和电子结构、石墨烯的性质及应用、石墨烯的制备和表征，以及石墨烯的氢气刻蚀研究等内容，目的在于对石墨烯目前的发展状态，尤其是在石墨烯的制备和应用方面提供一个综合的回顾。

• 606 0_ |a 石墨 |x 纳米材料 |x 研究

• 690 __ |a TB383 |v 5

• 701 _0 |a 王彬 |9 wang bin |4 著

• 801 _0 |a CN |b 江苏新华 |c 20191119

• 801 _2 |a CN |b Wuxilib |c 20200416

• 905 __ |a Wuxilib |d TB383/86